韩国高等法院维持前 SK 海力士员工泄露 CMOS 技术案 18 个月刑期
首尔高等法院在上诉中维持对一名前 SK 海力士员工泄露 CMOS 图像传感器相关商业秘密的 18 个月有期徒刑。法院认定存在商业秘密泄露，但未将涉案资料全部认定为受《产业技术保护法》保护的国家核心技术，相关争议仍在向最高法院推进。
首尔高等法院在上诉中维持对一名前 SK 海力士员工泄露 CMOS 图像传感器相关商业秘密的 18 个月有期徒刑。法院认定存在商业秘密泄露，但未将涉案资料全部认定为受《产业技术保护法》保护的国家核心技术，相关争议仍在向最高法院推进。
韩国首尔高等法院近日在一宗上诉案件中，维持对一名前 SK 海力士员工判处的 18 个月有期徒刑。该员工被控在韩国半导体企业中国业务机构任职期间，拍摄、打印包含公司商业秘密的内部资料，并将其中部分内容写入提交给中国公司的求职简历。
路透社 8 月 9 日援引韩国联合通讯社报道说，案件涉及 CMOS 图像传感器（CMOS image sensor，CIS）相关制造技术。首尔高等法院在上诉审中维持了一审判决。路透社报道没有披露涉事中国公司的名称，法院也没有立即回应置评请求。
路透社：Former SK Hynix employee jailed for leaking information to a Chinese firm, Yonhap reports
案件涉及的不只是“跳槽”本身
据韩国媒体报道，这名男子曾在 SK 海力士中国销售法人工作。检方指控，他在 2022 年准备转往包括华为子公司海思在内的中国企业时，为了在简历中具体描述自己的经历，违反公司安全规定，从内部文件管理系统中打印或拍摄技术资料。
《东亚日报》报道说，涉案资料包括 170 份、约 5900 页的商业秘密文件，其中包含 CIS 相关技术内容；部分内容后来被实际引用在提交给中国公司的简历中。韩国数字媒体 Digital Daily则报道称，法院认定被告将利用商业秘密制作的简历交给中国公司，构成泄露行为。
此前韩国联合通讯社在报道检方于 2025 年起诉该员工时称，检方掌握的照片数量超过 1.1 万张，并指资料中还包括与混合键合（hybrid bonding）有关的内容。由于不同报道对资料数量的表述并不完全一致，现有公开报道不足以确定一个统一的文件或图像总数。
一审法院认定，相关行为违反了韩国有关防止不正当竞争和保护商业秘密的法律，并判处有期徒刑 1 年 6 个月。被告承认全部指控，而公司追回了其带走的大部分信息；这些因素被法院作为量刑时的有利情节考虑。
法院区分了商业秘密与“国家核心技术”
这宗案件的一个关键法律问题，是被带走的资料是否全部属于韩国法律所称的受保护先进技术或国家核心技术。
《东亚日报》报道，法院维持了对商业秘密泄露相关罪名的有罪判断，但没有支持其中关于违反《产业技术保护法》的部分指控。法院认为，涉案 CIS 生产资料在行为发生时，并不属于韩国贸易、工业和能源主管部门公告所列的相应先进技术范围。
这意味着，法院并没有认定所有被带走的资料都可以被表述为“国家核心技术”，但这并不影响其依据商业秘密和不正当竞争相关法律判处刑罚。韩国媒体引述二审法院的说法称，如果对这类行为处罚过轻，海外竞争企业可能借助人才招募，更容易获取韩国企业长期投入形成的技术能力。
检方已经就产业技术保护法相关的无罪判断继续提出上诉。按照《东亚日报》的报道，韩国最高法院预计在 8 月 13 日处理这一部分争议。该程序可能进一步说明，法院将如何划分一般商业秘密、企业技术资产与法律上被列入保护范围的先进技术。
CIS 与人工智能芯片的关系需要谨慎理解
CMOS 图像传感器是一类非存储芯片，负责把进入镜头的光线转化为电信号，再形成可以处理和存储的图像数据。它广泛用于智能手机相机、笔记本电脑等设备。SK 海力士在其技术介绍中也将 CIS 描述为把光转换为数字信号的半导体器件。
SK 海力士新闻室：CIS（CMOS Image Sensor）技术介绍
CIS 并不是用于训练或运行人工智能模型的典型计算芯片，也不是 HBM 这类人工智能加速器配套存储器。因此，这起案件本身不是 AI 模型发布或 AI 芯片技术转移事件。
但从产业链角度看，案件仍然触及人工智能时代半导体竞争中的一个共同问题：企业如何保护制造工艺、良率优化、封装和材料等长期积累的知识，同时允许人才在跨国企业之间合法流动。韩国联合通讯社此前的起诉报道提到，涉案资料中包含混合键合技术内容；检方认为这类技术与 HBM 的实现有关。不过，二审法院并未据此把相关资料全部认定为当时法律意义上的先进技术。
这一点也说明，不能因为案件涉及半导体，便直接推断已经发生了完整的技术转移，更不能据此认定涉事中国企业已经获得了相应制造能力或造成了可量化的产业损失。公开报道没有披露涉事中国公司的名称，也没有说明这些资料是否被用于实际生产，或者是否给 SK 海力士造成了具体经济损失。
韩国半导体企业面临更复杂的技术保护压力
这起案件发生之际，韩国正在加大对半导体等战略产业技术外流的关注。路透社此前报道，韩国检方曾起诉 10 人，指控其向中国存储芯片企业长鑫存储（CXMT）泄露存储芯片制造技术；检方称相关案件可能帮助中国企业推进 HBM 等人工智能计算关键部件的发展。另一起案件中，韩国法院也曾以泄露三星电子半导体技术为由判处前研究人员刑罚。
路透社：South Korea charges 10 over alleged chip technology leak to China’s CXMT
这些案件的法律事实和涉案技术并不相同，不能简单合并为同一轮技术转移事件。但它们共同反映出韩国半导体产业面对的现实：竞争优势越来越依赖工艺细节、生产经验和跨团队积累的隐性知识，而不仅仅是可以通过专利文件清楚界定的单项发明。
对企业而言，员工离职前的大规模打印、拍摄和访问内部资料，是传统信息安全系统需要重点监测的风险。对司法机关而言，案件则提出了另一层难题：当技术快速演进、产业分类和行政公告存在时间差时，哪些内容应当适用国家核心技术保护规则，哪些内容应当通过商业秘密和不正当竞争法律处理。
目前可以确认的是，首尔高等法院维持了这名前员工 18 个月的刑期，并认可其泄露商业秘密行为的刑事责任。至于涉案 CIS 或混合键合资料是否应被纳入更严格的产业技术保护范围，以及这些资料是否造成了实际产业影响，仍应以韩国最高法院后续程序和更多公开司法材料为准。
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